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氣相沉積爐設計

時間:2021-12-2 17:02:00 來源:http://www.tangerinelilly.com/news730507.html

  氣相沉積爐是利用了加熱離子體激勵或光輻射等方法,讓氣態的或者蒸汽狀態的化學物質發生反應,并以原子態沉積在適當的位置的襯底上。從而形成了所需要的固態薄膜或是涂層的過程。

  氣相沉積爐反應室的壓力、氣體的流動速率、晶片的溫度等反應中間起的作用都是沉積參數的變化范圍,所以考慮到沉積薄膜中的變數、以及沉積速率決定著反應室的產出量,反應生成的膜不僅會沉積在晶片上,也會沉積在反應室的其他部件上,所以對反應室進行徹底清洗的程度也是重要。

  氣相沉積爐是傳統的制備薄膜的技術,它的原理就是利用氣態的先驅反應物,通過原子、分子間的化學反應,在晶片上形成薄膜。氣相沉積能夠生產出具備高質量高純度以及高強度等優點的材料,因此在半導體行業很受歡迎。



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